张通和, 吴瑜光. 离子束多层膜制备技术和应用(下)[J]. 金属加工(热加工), 2005, (7): 57-59.
引用本文: 张通和, 吴瑜光. 离子束多层膜制备技术和应用(下)[J]. 金属加工(热加工), 2005, (7): 57-59.

离子束多层膜制备技术和应用(下)

  • 摘要: 4.多层DLC膜沉积特性 由于类金刚石膜具有很高的硬度、化学惰性,特别高的热导率和电阻率,因此这种膜在工业上已经有着许多的应用,比如机械工业抗磨损,电子工业中的组装、钝化和散热等.这种膜属于脆性膜,具有很高的压缩应力,高应力膜在使用中往往引起薄膜弯曲,产生应变,薄膜与基体粘合力降低,从而导致薄膜失效.为了增加薄膜与基体的粘合力,在DLC膜与基体之间沉积一层缓冲层,可以明显地增强薄膜与基体的粘合力.最优的增强薄膜与基体粘合力缓冲层的次序为Ti、TiN、TiCN、TiC和DLC.通过改变反应气体流量、基体偏压和电流密度,可以改变薄膜的成分,从而得到平滑的界苗.

     

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